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界面張力γ、潤濕角θ與泥頁巖孔半徑r關系(一)
來源:現(xiàn)代地質(zhì) 瀏覽 47 次 發(fā)布時間:2025-05-15
非常規(guī)油氣資源正在成為中國油氣勘探的重點對象之一,其中泥頁巖油氣藏是目前國內(nèi)外勘探開發(fā)的“熱點”。但由于泥頁巖具有孔徑小、滲透率低、比表面積大、孔隙結構復雜等特點,常規(guī)油氣勘探開發(fā)技術難以用于頁巖油氣的開采,且目前頁巖油氣勘探開發(fā)技術較為薄弱,因此加強對泥頁巖孔徑分布、孔隙結構的研究,對于頁巖油氣的勘探開發(fā)有著十分重要的意義。
目前研究泥頁巖孔隙結構、孔徑分布的方法主要有3大類:(1)以微區(qū)分析為主的圖像分析技術——FESEM、FIB-HIM等;(2)以壓汞法和氣體等溫吸附為主的流體注入技術;(3)以核磁共振、中子小角散射計算機斷層成像技術為代表的非流體注入技術。圖像分析技術能夠直觀、方便、快捷地獲取孔隙形態(tài)等方面的特征,但該方法研究范圍小,主要觀察的是微米級區(qū)域,因此代表性較差,且數(shù)據(jù)處理流程復雜,工作量大;非流體注入技術由于其原位、無損分析及粒子高穿透力的特點,使研究多種地質(zhì)條件下的孔隙特性成為可能,但該技術無法得到泥頁巖的孔喉特征;因此本文使用壓汞法研究泥頁巖的孔徑分布——流體注入法(壓汞法),在表征微孔隙的孔徑分布、比表面積等方面具有獨到優(yōu)勢,且能得到樣品的孔喉特征;壓汞法是目前研究泥頁巖大孔孔徑分布、孔喉結構常用的實驗方法,且具有實驗操作簡單、時間短、成本低、能夠較準確表征孔徑分布等優(yōu)點,因此壓汞法一直被廣泛應用于多孔材料孔徑分布、孔喉特征等方面的研究。
近年來,學者研究發(fā)現(xiàn),壓汞法實驗數(shù)據(jù)處理過程中Washburn方程所涉及的兩個關鍵參數(shù)——界面張力γ和潤濕角θ,并非前人認為的定值,而是隨孔半徑r變化的參數(shù),這使得前人利用壓汞法所得孔徑分布有較大誤差。本文以松遼盆地青山口組頁巖樣品為例,對比研究了界面張力γ和潤濕角θ參數(shù)校正前后的孔徑分布,為更加精確地表征頁巖孔徑分布奠定了基礎。
1實驗樣品及處理
實驗樣品取自松遼盆地青口組的黑色泥頁巖巖心,樣品取自不同井位、不同深度、有機質(zhì)含量不同的泥頁巖,按照標準GB/T21650.1進行高壓壓汞實驗。實驗儀器使用的是美國康塔公司(Quantachrome)GT60型全自動孔隙分析儀,該壓汞儀測試時的注汞壓力范圍為0.5~60 000 psi,可測孔徑范圍大約是0.08~950μm。
在實驗進行前,首先對樣品進行脫油處理,然后取處理后的3 g樣品,大小3~4 mm的顆粒,在110℃條件下烘干,然后將處理好的樣品裝入膨脹計內(nèi),該過程必須在氮氣手套箱中進行,然后將該樣品放入測控儀內(nèi)進行抽真空脫氣處理,最后注入液態(tài)汞并連續(xù)規(guī)律加壓至60 000 psi。
同時對該樣品進行熱解、TOC測試等實驗以獲取該樣品的基礎地球化學資料(表1)。
2高壓壓汞模型中參數(shù)的校正及實驗數(shù)據(jù)分析與處理
2.1高壓壓汞法的原理
壓汞法的原理基于汞對一般固體不浸潤,界面張力抵抗其進入孔中,欲使汞進入孔中,則需要施加外界壓力,外壓越大,汞能進的孔徑越小,進汞量越多。測試不同外壓下的進汞量,用Washburn方程得到壓力P與孔半徑r的關系,即可得到對應的孔體積和孔徑分布。
表1泥頁巖樣品基礎地球化學數(shù)據(jù)
2.2 Washburn方程簡介及存在的問題
Washburn方程是壓汞法分析樣品孔徑分布的基本方程,是由Washburn 1921年提出的液體芯吸的動力描述方程,用于研究巖石孔徑分布時,它假設巖石中的孔是規(guī)則的圓柱形,從而建立壓力與孔半徑的關系式(公式1)。
式中:Pc為毛管壓力,Pa;γHg為汞表面張力,N/m;θHg為汞潤濕角,rad;r為孔半徑,m。
現(xiàn)在通用的Washburn方程將表面張力γ和潤濕角θ視為定值,但由于納米尺度效應使得界面張力γ和潤濕角θ隨著孔半徑r的變化而發(fā)生變化,因此要對原Washburn方程中潤濕角與界面張力這兩個參數(shù)進行校正(公式(2)—(4))。
式中:Pc為毛管壓力,Pa;γHg為汞表面張力,N/m;θHg為汞潤濕角,rad;r為孔半徑,m;γ∞為孔半徑無窮大時汞的表面張力,γ∞=480 mN/m;θHg∞為孔半徑無窮大時汞的潤濕角(θHg∞=140°);Sb為吸附熱,Sb=Eo/Tb=93.99 J/(mol·k),Eo為蒸發(fā)焓,Tb為沸點;R為理想氣體常數(shù),R=8.314 J/(mol·k);h為有效分子或原子直徑,h=0.302 nm;rc為液滴曲率半徑,rc=-r/cosθ,nm;常數(shù)C1、C2、C3分別為18.345、1.719、2.711 7。